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 CMP拋光液《簡介》
CMP拋光液《簡介》
商品屬性
[產品規格] 容量:✔500ML ✔1L ✔4L
性質:✔水性 △油性
(一般常規為水性,請洽詢)
請打開 https://twunion-diamond.com.tw/themes/freecolor/library/readme.lbi 進行編輯
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  • 本店售價:TEL:07-831-3082   登入   註冊
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  • CMP拋光液《簡介》
 

商品描述


 
CMP技街綜合了化學和機械拋光的優勢:

  單純的化學拋光,拋光速率較快,表面光潔度高,損傷低,完美性好,但表面平整度和
平行度差,拋光後表面一致性差;而單純的機械拋光表面一致性好,表面平整度高,但表面
光潔度差,損傷層深。

  所以利用化學機械拋光可以獲得較為完美的表面,又可以得到較高的拋光速率,得到的
平整度比其它方法高兩個數量級,是目前能夠實現全域平面化的唯一有效方法。

{化學機械拋光過程是化學作用、物理(磨削)作用相互加強與促進的過程。}

  在用聯合磨料鑽石研磨液(多晶、單晶)對藍寶石襯底表面進行減薄和粗磨後,表面不可避免的
有一些或大或小的劃痕,而CMP拋光液利用〝軟磨硬〞的原理很好的實現了藍寶石表面的精密拋光。
(此拋光液產品於SiO2莫氏硬度為7,而藍寶石晶體的莫氏硬度為9,所以機械磨削作用較少,使機械
損傷大大減少。)
 
 
◢ 適用範圍:
廣泛用於多種奈米級材料的高平坦化拋光,如:矽晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、
磷化銦、精密光學器件、藍寶石片、寶石、天然珠寶...等拋光加工,使後易清洗。

 

█  規格請致電或來信詢問,可依客戶需求進行調整  █